Intel teste une nouvelle technique de gravure des processeurs a l'aide de rayons ultraviolets! Cela devrait permettre de créer une nouvelle génération de puce tous les 2ans.

Baptisée lithographie par ultraviolets extrêmes (EUV =Extreme Ultraviolet Lithography), cette technologie permet d'atteindre des finesses de gravure de 0,05micron. (alors que l'on vient à peine de passer au 0.13 micron et que amd et intel utilise encore le 18 micron).
Ainsi, Intel souhaite decuplé le nombre de transisteurs sur ces puces et atteindre une cadence supérieur à 10 Ghz d'ici 3 ans.


source:zdnet, yahoo

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